Galvaniseringsenheter - Silicet

Avancerade Waferlösningar för Processning

Silicets Electroplating Units levererar precisionskapacitet för waferprocessning för både enstaka wafers och batchdrift. Dessa mångsidiga enheter är designade för galvaniseringsapplikationer över olika substratformat och tillhandahåller tillförlitlig och effektiv processning från 2” till 12” wafers.

Flexibla Processkapaciteter

Enheterna stöder enstaka waferprocessning från 2” - 12” och batchprocessning från 2” - 6”. Andra substratformat inom ramen för dessa storlekar hanteras också, vilket gör systemet mycket anpassningsbart till olika produktionskrav.

Variabla Parametrar och Kontroll

Varje enhet har justerbart avstånd mellan katod och anod, med alla typer av anoder tillgängliga på förfrågan. Flödeskontroll är justerbar från 0,5 – 5 l/min, och erbjuder både fritt flöde och kontrollerat flöde med en flödesplatta med definierad layout. Temperaturkontroll säkerställer optimala processförhållanden för konsistenta resultat.

Fördelar med Modulär Design

Den modulära uppbyggnaden möjliggör enkel demontering och rengöring, med byte av plateringsprocess möjligt inom minuter. Denna kundvänliga design möjliggör snabbt utbyte av alla komponenter, vilket säkerställer minimal stilleståndstid och maximal produktivitet.

Miljö- och Kostnadseffektivitet

Enheterna minimerar elektrolytvolym, vilket gör dem resurseffektiva, mindre skadliga för miljön och kostnadsbesparande. Den inerta gasatmosfären och luftutsläppssystemet tillhandahåller ytterligare processkontrollalternativ för specialiserade applikationer.